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기 술 명
무반사를 위한 나노구조의 제조방법 및 무반사 나노구조가 집적된 광소자의 제조방법
연 구 자
이용탁(정보통신공학부)
등록번호
10-1131485-00-00
출원번호
10-2010-0074565
문 의 처
문희곤062-715-3077hgmoon@gist.ac.kr
발명정보

본 발명은 무반사를 위한 나노구조의 제조방법 및 무반사 나노구조가 집적된 광소자의 제조방법에 관한 것으로, 기판 상에 금속이온이 유기물 또는 무기물 이온과 결합된 용액을 도포하는 단계와, 상기 도포된 용액을 열처리하여 나노크기의 금속입자로 성장되도록 소결시키는 단계와, 상기 기판의 표면에 광파장 이하의 주기를 갖는 나노구조가 형성되도록 상기 금속입자를 마스크 또는 촉진제로 이용하여 상기 기판을 화학적 방법으로 식각하는 단계를 포함함으로써, 진공을 요구하는 장비 없이도 간단한 제조방법과 짧은 공정시간으로 반도체 물질과 공기 사이의 경계에서 일어나는 빛의 반사를 최소화할 수 있는 무반사 나노구조를 제작하고, 이를 광소자에 적용하여 우수한 광효율과 성능을 갖는 광소자를 저비용으로 대량 생산 할 수 있는 효과가 있다.

발명효과

본 발명에서 무반사를 위한 광파장 이하의 주기를 갖는 나노구조의 제조방법 및 무반사 나노구조가 집적된 광소자의 제조방법에 따르면, 기판에 금속이온이 유기물 이온 또는 무기물 이온과 결합된 형태로 포함된 용액을 도포하고, 도포된 용액을 열처리하여 나노크기의 금속입자로 소결하여 금속 입자를 이용한 화학적 식각함으로써, 진공을 요구하는 장비 없이도 간단한 제조방법과 짧은 공정 시간으로 광파장 이하의 주기를 갖는 무반사 나노구조를 제조하여 반도체 물질과 공기 사이에서 발생하는 빛의 반사를 최소화하고, 상기 무반사 나노구조를 태양전지, 광검출기, 발광소자, 투명 글래스 등과 같은 광소자에 집적하여 우수한 광효율과 성능을 갖는 소자를 저비용으로 대량 생산 할 수 있는 이점이 있다. 또한, 본 발명에 따르면, 기판에 단차가 있는 경우에도 웨이퍼 스케일 공정이 가능하며, 크기 조절이 가능한 금속입자를 이용한 화학적 식각을 통해, 기판에 광파장 이하의 주기를 갖는 나노구조를 제작함으로써, 넓은 파장영역과 입사각에서 낮은 반사율을 갖는 무반사 나노구조와 이것이 집적된 우수한 성능의 광소자를 제작할 수 있다는 이점이 있다.

대표청구항

기판 상에 금속이온이 유기물 또는 무기물 이온과 결합된 용액을 도포하는 단계; 상기 도포된 용액을 열처리하여 나노크기의 금속입자로 성장되도록 소결시키는 단계; 및 상기 기판의 표면에 광파장 이하의 주기를 갖는 나노구조가 형성되도록 상기 금속입자를 반응의 촉진제로 이용하여 상기 기판을 화학적으로 식각하는 단계를 포함하는 무반사를 위한 나노구조의 제조방법.