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기 술 명
무반사 나노구조의 제조방법
연 구 자
이용탁(정보통신공학부)
등록번호
10-1081499-00-00
출원번호
10-2009-0076738
문 의 처
문희곤062-715-3077hgmoon@gist.ac.kr
발명정보

본 발명은 무반사 나노구조의 제조방법 및 무반사 나노구조가 집적된 광소자의 제조방법에 관한 것으로, 기판 상에 금속박막을 증착하는 단계와, 상기 금속박막을 열처리하여 금속입자로 변형시키는 단계와, 상기 기판 자체의 상면에 광파장 이하의 주기를 갖는 끝이 뾰족한 쐐기형의 무반사 나노구조가 형성되도록 상기 금속입자를 마스크로 하여 상기 기판의 전면을 식각하는 단계를 포함함으로써, 제조 공정이 간단하며, 공기와 반도체 물질간의 굴절률차로 인해 발생하는 빛의 반사량을 최소화할 수 있을 뿐만 아니라 광소자(optical device) 분야에 용이하게 적용할 수 있는 효과가 있다.

발명효과

본 발명의 무반사 서브파장 나노구조의 제조방법에 따르면, 금속박막 증착, 열처리, 전면 식각을 이용하여 광파장 이하의 주기를 갖는 끝이 뾰족한 쐐기형의 무반사 격자패턴을 형성함으로써, 제조 공정이 간단하며, 공기와 반도체 물질간의 굴절률차로 인해 발생하는 빛의 반사량을 최소화할 수 있을 뿐만 아니라 저비용으로 광파장 이하의 주기를 갖는 무반사 격자구조의 제작이 가능하며, 태양전지, 광검출기, 발광소자, 투명 글래스 등의 광소자에 집적 시 효율을 극대화할 수 이점이 있다. 또한, 본 발명에 따르면, 기판의 단차가 있는 경우에도 공정이 가능하며, 웨이퍼 스케일 공정이 가능하며, 금속 마스크를 이용함으로써 기판 물질에 상관없이 마스킹 역할을 충분히 할 수 있는 이점이 있다.

대표청구항

(a) 기판 상에 투명전극, 버퍼층 및 금속박막을 순차적으로 증착하는 단계; (b) 상기 금속박막을 열처리하여 금속입자로 변형시키는 단계; (c) 상기 투명전극의 상면에 광파장 이하의 주기를 갖는 나노구조 버퍼층이 형성되도록 상기 금속입자를 마스크로 하여 전면 식각을 수행하는 단계; 및 (d) 상기 기판 자체의 상면에 광파장 이하의 주기를 갖는 끝이 뾰족한 쐐기형의 무반사 나노구조 및 나노구조 투명전극이 형성되도록 상기 나노구조 버퍼층을 마스크로 하여 상기 기판의 전면을 식각하는 단계를 포함하는 무반사 나노구조의 제조방법.