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기 술 명
반사율을 높이는 유전체 거울 형성 및 유전체 거울을이용한 필터 형성 방법
연 구 자
이용탁(정보통신공학부)
등록번호
10-0837077-00-00
출원번호
10-2004-0011363
문 의 처
문희곤062-715-3077hgmoon@gist.ac.kr
발명정보

본 발명은 반사율을 높이는 유전체 거울 다층 반사 구조 형성 방법 및 유전체 거울을 사용한 공진모드 파장 변화가능필터(Tunable passband filter)의 변화가능 파장 범위(Tunable wavelength range)를 넓히고 공진모드(Resonant mode)의 폭(Bandwith)을 줄이는 공진기 혹은 패스밴드필터의 형성 방법에 관한 것이다. 즉, 본 발명은 1차원 광결정구조를 이용한 유전체 거울 및 유전체 거울이 사용되는 투과필터의 성능향상에 있어서, 매질의 굴절률에 따라 매질과 인접하는 최외부 유전체 계층의 굴절률 및 두께를 조정하여 유전체 거울의 반사율을 향상시킴으로써, 이를 통해 더 적은 층을 쌓아도 같은 반사율을 얻는 것이 가능하도록 한다. 또한 2개의 유전체 거울이 사용되는 공진기 혹은 패스밴드필터에서는 바깥쪽 최외부 유전체 층을 적절히 선택함을 통해 공진기 모드의 폭을 줄이며, 2개의 유전체 거울이 사용되는 파장변화가능 필터에서 안쪽 최외부 유전체 층을 적절히 선택함을 통해 변화가능한 파장의 범위를 증가시킨다.

발명효과

본 발명은 1차원 광결정 구조를 이용한 유전체 거울의 성능향상에 있어서, 매질의 굴절률에 따라 매질과 인접하는 최외부 유전체 층의 굴절률과 두께를 조절함을 통해 유전체 거울의 반사율을 향상시킴으로써, 이를 통해 더 적은 층을 쌓아도 같은 반사율을 얻는 것이 가능하도록 하는 이점이 있다. 또한 2개의 유전체 거울이 사용되는 공진기에서 바깥쪽 최외부 유전체 층의 굴절률과 두께를 적절히 선택함을 통해 공진기에서 공진모드의 폭을 줄일 수 있고, 이를 통해 더 적은 층을 쌓은 유전체 거울을 사용하여 원하는 크기의 투과밴드 폭을 얻을 수 있으며, 2개의 유전체 거울이 사용되는 공진기에서 안쪽 최외부 유전체 층의 굴절률과 두께를 적절히 선택함을 통해 공간의 길이 변화에 따른 공진모드의 파장 변화를 크게 할 수 있는 이점이 있다.

대표청구항

반사율을 높이는 유전체 거울 형성 방법에 있어서, (a)매질의 굴절률을 유전체 거울을 구성하는 유전체 층들의 굴절률과 비교하는 단계와, (b)상기 유전체 층들의 최외부 유전체 층에 적층될 유전체 층의 굴절률을 검사하는 단계와, (c) 상기 (a)단계 및 (b)단계의 판단에 따라, 상기 매질의 굴절률이 상기 유전체 층들 중 낮은 굴절률을 가지는 유전체 층의 굴절률보다 낮고, 최외부 유전체 층에 높은 굴절률을 가지는 유전체 층이 요구되는 경우에 상기 최외부 유전체 층에 높은 굴절률을 가지는 유전체 층을 1/4 파장 조건을 만족시키는 두께로 적층시키고, 상기 매질의 굴절률이 상기 유전체 층들 중 낮은 굴절률을 가지는 유전체 층의 굴절률보다 낮고, 최외부 유전체 층에 낮은 굴절률을 가지는 유전체 층이 요구되는 경우에 상기 최외부 유전체 층에 낮은 굴절률을 가지는 유전체 층을 1/4 파장 조건을 만족시키는 두께의 2배가 되도록 적층시키는 단계와, (d)상기 최외부 유전체 층 이후에는 서로 다른 굴절률의 유전체 층을 반복적으로 적층시켜 유전체 거울을 형성시키는 단계, 를 포함하는 것을 특징으로 하는 유전체 거울 형성 방법.