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기 술 명
연속회분식 장치 및 이를 이용한 호기성 입상 슬러지의 제조방법
연 구 자
김인수(환경공학부)
등록번호
10-1268116-00-00
출원번호
10-2009-0044547
문 의 처
문희곤062-715-3077hgmoon@gist.ac.kr
발명정보

연속회분식 장치 및 이를 이용한 호기성 입상 슬러지의 제조방법을 제공한다. 상기 호기성 입상 슬러지 제조방법은 반응조 내에 슬러지를 포함하는 처리액을 주입하는 단계, 상기 반응조 내에서 미생물이 사상균에 결합된 균사상 펠릿을 형성하는 단계, 상기 균사상 펠릿 내 미생물의 성장을 촉진시켜 미생물 펠릿을 성장시키는 단계 및 상기 균사상 펠릿의 붕괴를 통해 미생물 펠릿을 방출시키고 상기 미생물 펠릿을 호기성 입상 슬러지로 성장시키는 단계를 포함한다.

발명효과

본 발명의 일 실시예에 따른 연속회분식 장치는 처리액의 유입 또는 유출되는 농도와 시간, 또는 산소의 농도와 시간과 같은 조건들을 미세하게 조절하여, 호기성 입상 슬러지 제조를 위한 최적의 조건을 마련할 수 있다. 이와 더불어, 호기성 입상 슬러지의 최소 침강 속도를 조절함으로써 상기 호기성 입상 슬러지의 직경을 제어할 수 있으므로, 균일한 크기의 호기성 입상 슬러지 확보와 더불어, 향상된 수처리 효율을 확보할 수 있는 특징이 있다. 또한, 본 발명에 따른 호기성 입상 슬러지는 종래의 입상 슬러지를 형성하기 위한 미디어나 응집제를 첨가하지 않고도 높은 침강성과 결합성을 가질 수 있으며, 사상균에 결합된 미생물은 운전중의 손상이 방지되므로, 충분한 성장과정이 수행될 수 있다. 따라서, 최종적으로 수득되는 호기성 입상 슬러지의 양이 증가될 수 있으며, 이를 이용하여 계속적인 폐수처리가 가능해질 수 있다.

대표청구항

반응조 내에 슬러지를 포함하는 처리액을 주입하는 단계; 상기 반응조 내에 상기 처리액의 유입 및 유출 없이 제1 폭기과정와 제1 침전과정을 반복 진행하여 상기 반응조 내를 호기적 기아상태로 유지시켜, 상기 반응조 내에서 미생물이 사상균에 결합된 균사상 펠릿을 형성하는 단계; 상기 처리액을 유입 및 유출시키면서 제2 폭기과정과 제2 침전과정을 반복 수행하되 부유 미생물과 플럭을 제거하여 상기 균사상 펠릿 내 미생물의 성장을 촉진시켜 미생물 펠릿을 성장시키는 단계; 및 상기 처리액을 유입 및 유출시키면서 제3 폭기과정과 제3 침전과정을 반복 수행하되, 상기 제3 침전과정의 소요시간은 상기 제2 폭기과정의 소요시간 대비 15% 내지 25%로 설정하여 상기 균사상 펠릿의 붕괴를 통해 미생물 펠릿을 방출시키고 상기 미생물 펠릿을 호기성 입상 슬러지로 성장시키는 단계를 포함하는 호기성 입상 슬러지 제조방법.