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기 술 명
헤파린 친화성 생물질의 방출 조절방법
연 구 자
태기융(신소재공학부)
등록번호
10-1288474-00-00
출원번호
10-2011-0115708
문 의 처
문희곤062-715-3077hgmoon@gist.ac.kr
발명정보

본 발명은 헤파린 친화성 생물질의 방출 조절방법에 관한 것으로서, 더욱 구체적으로는 금속표면에 흡착된 티올화 헤파린을 이용한 헤파린 친화성 생물질의 방출 조절방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 세포 독성을 야기하지 않으면서도 세포 활성에 악영향을 끼치지 않고, 성장인자들과 같은 다양한 헤파린 친화성 생물질의 방출속도를 외부 전기 자극에 의해 시/공간적으로 조절할 수 있으므로, 본 발명은 약물 전달, 바이오센서 및 세포 배양을 포함하는 다양한 생의학 및 생명공학 분야에 적용될 수 있다.

발명효과

본 발명에 따르면, 세포 독성을 야기하지 않으면서도 세포 활성에 악영향을 끼치지 않고, 성장인자들과 같은 다양한 헤파린 친화성 생물질을 외부 전기자극에 의해서 간단하고 정확하게 방출속도를 조절할 수 있는 방법을 제공할 수 있다.

대표청구항

헤파린의 카르복실산기를 변형시킴으로써 티올화된 헤파린을 제조하는 단계; 상기 티올화된 헤파린을 산화반응에 의해서 금속표면에 화학적으로 흡착시키는 단계; 상기 흡착된 헤파린에 헤파린 친화성 생물질을 결합시키는 단계; 및 상기 금속표면, 헤파린 및 헤파린 친화성 생물질의 복합체에 전기 자극을 가해줌으로써 상기 헤파린 친화성 생물질의 방출을 야기하는 단계를 포함하는, 헤파린 친화성 생물질의 방출 조절방법.