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제조방법 에 대한 검색 결과

유망기술 검색 결과

박막형 마이크로렌즈 제조방법_연구자 송영민(전기전자컴퓨터공학부)

- 고굴절율의 실리콘 마이크로렌즈 어레이를 SOI 웨이퍼 상에 제작한 뒤 기판으로부터 분리하여 설치대상 기판에 전사하는 마이크로렌즈 제조방법

- 기존 유리 및 폴리머 재질의 마이크로렌즈와는 달리...

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터치패널 제조방법_연구자 정건영(신소재공학부)

  • 기존의 저항막 방식의 터치패널은 동시 두 지점의 터치시 서로 전기적인 단락이 발생되어 터치 오류가 발생되며, 정전 방식의 경우, 센싱을 위한 하부에 별도의 패턴이 요구됨
  • ...

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육방정계 구조물 및 이의 제조방법_연구자 정건영(신소재공학부)

  • 산화아연은 근자외선 영역의 광원으로 사용 가능하며, 양질의 광전극 특징, 고효율 광이득, 결함 형성 억제, 광도파로 등의 우월성을 가짐
  • 기판으로부터 수직 배향되거나, 다양...

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특허 검색 결과

비휘발성 저항 스위칭 메모리 소자 및 이의 제조방법_연구자 황현상(신소재공학부)

비휘발성 저항 스위칭 메모리 소자 및 이의 제조방법이 개시된다. 본 발명에 의한 비휘발성 저항 스위칭 메모리 소자는 제1 하부 전극, 제1 저항 변화층 및 제1 상부 전극을 포함하는 제1 저항 변화 메모리 및...

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선택 소자, 이를 포함하는 비휘발성 메모리 셀 및 이의 제조방법_연구자 황현상(신소재공학부)

선택 소자, 이를 포함하는 비휘발성 메모리 셀 및 이의 제조방법이 제공된다. 선택 소자는 제1 전극과 제2 전극 사이에 터널링 산화물층 및 금속 클러스터 산화물층을 포함하는 다층의 산화물 적층 구조를 채용하여...

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메모리 소자 및 그 제조방법_연구자 황현상(신소재공학부)

메모리 소자 및 그 제조방법이 개시된다. 메모리 소자를 구성하는 저항변화층과 전극간 접촉면적, 전극간 저항변화층의 길이를 변화시킴으로써 저항변화층의 임계전압을 변화시킬 수 있다. 또한, 복수개 형성되는 저항 변...

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저온 고압 열처리를 이용한 비휘발성 메모리 제조방법_연구자 황현상(신소재공학부)

저온 고압 열처리를 이용한 비휘발성 메모리의 제조방법이 개시된다. 비휘발성 메모리를 구성하는 게이트 구조물의 형성시에 2단계의 열처리가 수행된다. 2단계의 열처리는 고유전율 절연막들 간의 계면 결함 및 내부 결...

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에피택시 버퍼층을 이용한 비휘발성 기억소자 및 그제조방법_연구자 황현상(신소재공학부)

본 발명은 산화막의 저항변화를 이용한 비휘발성 기억소자에 있어서, 기판 위에 에피택시 버퍼층을 형성하고 그 위에 산화막을 형성하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 기억소자의 제조 방법 및 비휘발성 기억소자에...

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