위상변이 레이저 간섭을 이용한 미세 패턴 형성 기술
문희곤
hgmoon@gist.ac.kr
062-715-3077
기술개요
- 광통신에 주로 사용되는 광 도파로의 경우 내부 전반사를 이용한 광 전송이 이루어 지고 있기 때문에 도파 방향이 급하게 바뀔 경우 bending loss가 크고 광섬유의 분산에 의한 신호왜곡이 발생할 수 있음
- 이러한 문제를 해결하기 위해 광 결정 도파로를 사용할 수 있으나, 광결정 도파로 패턴을 얻기 위해 주로 전자빔 리소그래피 방법이 사용되어지고 있어 높은 비용과 패턴의 형성속도가 느리고대면적 패턴을 구현하기 어렵다는 단점이 있음
- 본 기술은 레이저 간섭 리소그래피, 엠보싱, 위상 변위 리소그라피를 결합한 대면적 광결정 패턴 내 결함 라인 형성 기술이다. 패턴의 형성속도가 매우 빠르고, 패턴 형성비용이 여타 공정에 비해 매우 저렴한 광결정 기반 미세 결함 패턴 형성 기술임
기술의 특징/우수성
- 위상 변이 레이저 간섭 리소그래피 방법은 대면적의 광 결정 패턴형성이 용이하고, 패턴 형성 속도가 매우 빠르며, 공정 비용이 저렴하고, 광 결정 크기 조절이 가능하기 때문에 임의의 파장에 상응하는 광 결정을 형성 할 수 있음
- 또한 주기적으로 형성되는 광 결정 패턴 내에 광 결함 라인 패턴을 동시에 형성할 수 있음
주요기능/사양
- 전자빔 리소장비 없이 광결정내 결함 라인들을 쉽게 구현 가능
응용분야
