본 발명은 수화겔 형성용 조성물에 관한 것으로서, 더욱 구체적으로는 1 중량% 이하의 산화그래핀 및 5 중량% 이상의 하기 화학식 1로 표시되는 트리블록 공중합체를 포함하는 수화겔 형성용 조성물에 관한 것이다:003c#화학식 1003e#상기 식에서, n은 8 내지 540의 정수이고, m은 16 내지 70의 정수이다.본 발명에 따르면, 간단한 혼합 공정에 의해서 제조가능하면서도, 종래 수화겔 조성물에서 지적되던 인 비트로 및 인 비보 안정성 문제가 현저히 개선되고, 저장탄성률과 같은 기계적 물성이 우수할 뿐만 아니라, 생체적합성도 우수한 수화겔 형성용 조성물을 제공할 수 있다.