총 특허 수 : 5건   |   1 / 1페이지

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위상변이 레이저 간섭을 이용한 미세 패턴 형성 기술

광통신에 주로 사용되는 광 도파로의 경우 내부 전반사를 이용한 광 전송이 이루어 지고 있기 때문에 도파 방향이 급하게 바뀔 경우 bending loss가 크고 광섬유의 분산에 의한 신호왜곡이 발생할 수 있음 이러한 문제를 해결하기 위해 광 결정 도파로를 사용할…


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용액법 기반 나노 패턴 형성 기술

유기 소자의 패터닝 공정에서 포토레지스트에 포함된 유기 용제에 의한 유기 소자의 손상 및 취약한 열안정성 문제들을 해결하기 위한 기술로써, 용액법 기반 모서리 패턴 형성 방법을 이용한 유기 소자의 나노 스케일 패턴을 형성할 수 있는 더블 디웨팅 모서리 리소그라피(…


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터치패널 제조방법

기존의 저항막 방식의 터치패널은 동시 두 지점의 터치시 서로 전기적인 단락이 발생되어 터치 오류가 발생되며, 정전 방식의 경우, 센싱을 위한 하부에 별도의 패턴이 요구됨 서로 수직으로 교차하는 상부 전극과 하부 전극 사이에 산화아연 등의 압전 소재 금속 산화물…


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육방정계 구조물 및 이의 제조방법

산화아연은 근자외선 영역의 광원으로 사용 가능하며, 양질의 광전극 특징, 고효율 광이득, 결함 형성 억제, 광도파로 등의 우월성을 가짐 기판으로부터 수직 배향되거나, 다양한 형상을 가지는 산화아연 재질의 육방정계 구조물 제작함  


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용액법 공정 기반 투명 전극/반도체

용액법 공정을 이용하여 제조되는 격자 전극을 포함하는 투명 반도체 장치 제조 방법 게이트 전극, 게이트 절연막, 및 활성층은 투명성 물질로 이루어짐 소스 전극 및 드레인 전극은 활성층 상면에 각각 금속 나노파티클 용액을 이용하여 격자 무늬 전극을 형성하여 …